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日本聯(lián)手美國研發(fā)2nm工藝,臺積電回應(yīng):不擔(dān)心被超越

來源:貼片電容 發(fā)布時間:2022-06-16 瀏覽:392

據(jù)日經(jīng)新聞報道,日本將與美國方面合作,啟動日本2nm先進(jìn)制程研發(fā)、制造設(shè)施建設(shè)。


圖片

來源:日經(jīng)新聞


據(jù)日經(jīng)報道稱,合作的方式可能是美日雙方企業(yè)合資成立新公司,或由日本企業(yè)獨自承擔(dān)基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè),經(jīng)產(chǎn)省將予以補貼。據(jù)悉,該合作預(yù)計最早在2025年在日本建立2nm半導(dǎo)體制造基地。

目前,美國擁有最強的芯片設(shè)計能力,而全球5nm以上工藝芯片制造技術(shù)掌握在臺積電三星手中,此次美日合作目的是擺脫對臺積電的依賴。

對于美日合作,臺積電在日前股東會議上進(jìn)行了回應(yīng)。臺積電不會掉以輕心,研發(fā)支出會持續(xù)增加,臺積電3nm制程是相當(dāng)領(lǐng)先。而2nm工藝預(yù)計會在2024年試產(chǎn),2025年開始量產(chǎn)。


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