三位知情人士稱，事件緣由是SK海力士計(jì)劃升級位于中國無錫的DRAM和NAND晶圓廠，同時(shí)配備荷蘭ASML最新的極紫外(EUV)光刻機(jī)，從而成為全球最先進(jìn)的存儲(chǔ)器制造廠。

繼特朗普游說荷蘭政府阻止ASML向中芯國際出口EUV后，一位白宮高級官員稱，拜登政府仍然專注于阻止中國利用美國和盟國的技術(shù)開發(fā)最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)。

圖：SK海力士CEO 李錫熙

據(jù)兩位了解SK海力士的人士透露，ASML光刻機(jī)的進(jìn)口問題在SK海力士內(nèi)部引起了足夠的關(guān)注，以至于首席執(zhí)行官李錫熙在7月訪問華盛頓期間向美國官員提出了這個(gè)問題。

但目前似乎并沒有進(jìn)展，且從本月SK海力士按要求向美國商務(wù)部遞交產(chǎn)能和經(jīng)營信息來看，前景非常不明朗。SK海力士稱正在盡最大努力應(yīng)對市場和客戶的需求。

之所以EUV進(jìn)口問題深受各方關(guān)注，首先在于無錫廠對全球電子行業(yè)至關(guān)重要。數(shù)據(jù)顯示，無錫廠的DRAM芯片產(chǎn)量約占整個(gè)SK海力士的50%，占到全球總量的15%。

圖：DRAM技術(shù)路線（Tech Insights）

同時(shí)，一位了解海力士中國的消息人士表示，隨著新工藝生產(chǎn)的存儲(chǔ)芯片在兩到三年內(nèi)占據(jù)更大份額，SK海力士將需要借助EUV來降低平均成本、擴(kuò)充產(chǎn)能，否則將在下個(gè)世代落后于三星和美光。

而不同之處在于，三星和美光已經(jīng)采購了ASML的EUV機(jī)器，但并未在中國工廠部署使用。

而影響此事進(jìn)展的另一方在于ASML，其發(fā)言人曾表示，該公司遵守所有出口管制法律，并將其視為政府確保國家安全的“有效工具”。

VLSIresearch分析稱，這些規(guī)則（指設(shè)備出口限制）可能適用于中國的任何芯片制造業(yè)務(wù)，無論是外國的還是國內(nèi)控制的，“任何在中國安裝EUV工具的人都會(huì)為中國提供能力”。